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ETD-2000MH微型高真空磁控溅射仪
,溅射材料增加信噪比,从而获得更好的成像质量。非导电材料实验电极制作观察导电特性 磁控溅射是入射粒子和靶的碰撞过程。 ETD-2000MH型磁控等离子溅射仪。 磁控溅射的工作原理是指电子
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三靶高真空磁控镀膜溅射系统
设计后,系统安装方便灵活易于维护,适合科研与教学实验使用。 产品简介:该设备为小型三靶磁控溅射镀膜设备,通过模块式化设计后,系统安装方便灵活易于维护,适合科研与教学实验使用。产品型号三靶高真空磁控
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英国QUORUM Q150T新型触摸屏高真空一体化溅射镀膜仪
范围真空计Q150T系列全自动高真空离子溅射/热蒸发一体化镀膜仪给用户以类似傻瓜相机的简单操作、顶级的镀膜质量和对熟手/新手都很理想的用户界面,让用户真正领略至臻完美的镀膜品质!特点和优点: ● 金属
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Q150T ES PLUS高真空离子溅射/热蒸发一体化镀膜仪
3.05mm直径标配碳棒头。 Q150T PLUS系列镀膜仪是一款专为SEM、TEM及薄膜应用设计的高真空镀膜仪, 金属溅射和碳蒸发两者兼备,一体化设计,结构紧凑,节约空间。 精细颗粒
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等离子薄膜溅射仪
×W560mm×H1340mm可选配件:氧化铝坩埚,石英坩埚,真空泵等 抽速快,操作简便,真空度高,安全可靠 产品名称:等离子薄膜溅射仪 GSL-1100X-SPC-12产品简介
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离子溅射仪ISC 150
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EMS镀膜仪(离子溅射仪)
产品名称:EMS镀膜仪(离子溅射仪)品牌:EMS 型号:EMS150RES EMS 150R S – 紧凑型机械泵溅射仪,适合非氧化金属 EMS 150R E – 紧凑型机械泵镀碳仪
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离子溅射仪 喷金仪
VC-100型喷碳仪性能介绍真空泵连接真空室,控制单元提供电压,机械泵抽气速率50L/分。 主机的真空室含有喷碳头,玻璃罩样品底座。"O"型密封封闭真空系统,工作时发真空度可达
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ETD-2000Ⅲ 离子溅射仪
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SD-160离子溅射仪
的镀膜技术,是许多厂商提供的离子溅射仪的基础。除了具有通常的基本结构外,它的特点是:配置有样品溅室,真空显示表、溅射电流指示表、溅射电流调整控制器、微型真空阀、定时器。工作时结合内部自动控制电路很容易
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